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發(fā)表于 2020-12-10 08:31:46
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拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類(lèi):金剛石拋光液(多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液(即CMP拋光液)、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類(lèi)。 [2]
3 L$ T5 R. q3 s$ ^多晶金剛石拋光液
, V l4 z' i9 B( ~多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時(shí)不易對(duì)研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。" @4 o: k! R# I. U; k) S
主要應(yīng)用于藍(lán)寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤(pán)磁頭等的研磨和拋光。1 z( I' s; E; }( F7 n
氧化硅拋光液
2 @* x7 B1 F/ i! m5 T7 h氧化硅拋光液(CMP拋光液)是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。
. j( G) e9 k, ~) @- L5 W, n廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。
/ _% S: }4 D6 f/ s* W# s氧化鈰拋光液( V: R" M# e5 p T3 A
氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級(jí)CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,該研磨液具有分散性好、粒度細(xì)、粒度分布均勻、硬度適中等特點(diǎn)。
! Y+ i3 T- i% H ~適用于高精密光學(xué)儀器,光學(xué)鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。
+ y4 o& D* z( N8 ]氧化鋁和碳化硅拋光液
5 m* O7 h/ C) S) F5 k是以超細(xì)氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液,主要成分是微米或亞微米級(jí)的磨料。' z9 j; b3 i% `/ g
主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤(pán)基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。 |
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