關(guān)于鍍鉻的幾個疑問

SY1100479

新人求教關(guān)于鍍鉻的幾個問題： 1.鍍硬鉻跟鍍黑鉻表面硬度上有什么區(qū)別嗎？鍍鉻后一般硬度可達到多少？
2.鍍層厚度一般在什么樣的水平，20um-50um嗎？
3.除了鍍鉻，有沒有其他表面處理技術(shù)可以使材料表面拋光后亮度提升？目前材料S136磨過后粗糙度在200nm，3M砂紙拋光一小時后鏡面效果不佳。

wtangzz147

想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻？

SY1100479

wtangzz147 發(fā)表于 2020-12-9 16:57
. k  y& V7 ~+ t/ h4 d6 x3 Z想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻？

直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內(nèi)，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙度還是有點大，目前是計劃先磨再鍍鉻再拋光（拋光同時把平面度處理好）
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18706204575

涉及高精度加工，不懂

大陸架

利用光學(xué)鏡頭行業(yè)的拋光液拋光試試。

大陸架

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。 [2]
多晶金剛石拋光液
* p1 m0 L8 k; i  `! g# j/ i7 e多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷。
主要應(yīng)用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。
8 f& j+ \" k, A: q氧化硅拋光液
+ s; |0 j7 _5 c% b) h) n氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學(xué)器件、藍寶石片等的拋光加工。
) f3 ~4 E0 M) I+ e; A氧化鈰拋光液
氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。
適用于高精密光學(xué)儀器，光學(xué)鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。
氧化鋁和碳化硅拋光液
; l7 ?6 l# N( w0 m4 R是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。
) a$ x4 ^" }0 U- D3 w' K主要用于高精密光學(xué)儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

SY1100479

大陸架 發(fā)表于 2020-12-10 08:31
拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液 ...

老哥，氧化鈰適合拋光玻璃，我們有在用的粒度是0.5um的，金屬拋光不太適合；
另外，我詢問的是鍍鉻的知識
3 Y( m, ^$ v3 O0 ~

parkorliu

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
+ o6 Z2 e2 u: q& L. O4 M. P直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內(nèi)，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

可以鍍后加工的，我們水工行業(yè)的活塞桿就是這么干的。表面粗糙度＜Ra0.2，再高就沒試過了。

wtangzz147

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
' ?) K7 Y" F; z3 A直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內(nèi)，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

) j+ d# X' W3 G5 L# U4 \! Z先磨再鍍感覺靠譜
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遠祥

鍍黑鉻有時是起到裝飾作用，就像油標(biāo)卡尺的刻度線，它就是黑鉻，這種粘付力不大，容易被擦掉，所以硬鉻鍍層粘付力才大。