QPQ處理試樣孔洞層抗蝕性的研究

renliangbing

QPQ處理試樣孔洞層抗蝕性的研究

林圍

QPQ處理后產(chǎn)生空洞層其實(shí)是化合物層疏松或是分層，一般產(chǎn)生的原因有四點(diǎn)，
1.氮化鹽浴中懸浮的顆粒狀渣太多。
2.氮化鹽熔化時(shí)加鹽方法不對(duì)或爐溫不均，鹽浴局部過(guò)熱。
3.氮化時(shí)間太長(zhǎng)。
2 B) u$ H' D4 `' `- }, x: @1 i3 I4.氮化溫度太高
( q3 d7 o6 ?, k7 d, ?. a一般的解決方法有以下四點(diǎn)
: q) Y. b( s# d& K8 D! P1 d1.先用撈渣勺撈渣，再用爐渣器濾渣2-3遍。
2.嚴(yán)格按操作規(guī)程化鹽，必要時(shí)可調(diào)整電爐功率或爐絲分布。
3.適當(dāng)縮短氮化時(shí)間。
4.降低氮化溫度過(guò)高。

z9166

QPQ工藝好象是有三個(gè)階段，熱處理后，精磨再熱處理，再鹽浴氧化